紫外臭氧清洗機是一種簡單,經(jīng)濟,快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。
紫外臭氧清洗機的光清洗技術(shù)的應用范圍十分廣泛,在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍,隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展,光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
1、在LCD、OLED生產(chǎn)中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗,可以極大的提高基體表面潤濕性,增強基體表面的粘合力;
2、印制電路板生產(chǎn)中,對銅底板,印刷底板進行光清洗和改質(zhì),在導線焊接前進行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板,當線距達到亞微米級時,光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3、大規(guī)模集成電路的密度越來越高,晶格的微細化越來越密,要求表面的潔凈度越來越高,光清洗可以有效地實現(xiàn)表面的原子清潔度,而且對芯片表面不會造成損傷。
4、在半導體生產(chǎn)中,硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發(fā)生。
5、在光盤的生產(chǎn)中,沉積各種膜前作光清洗準備,可以提高光盤的質(zhì)量。